中国は河北省の石家庄から、天皓集団が9月24日に、弊所を訪問してくださいました。
同集団は河北省で最大級の特許事務所を展開しており、集団の歴史や河北省の特許事情について詳しくご説明くださいました。設立当初は商標関連の業務が中心でしたが、今では知的財産関連業務を総合的に行っているとのこと。中国国内に幾つも支所を持ち、2016年にはオーストラリアでも支所を設立。200人以上の専門スタッフを擁し、現在国際的な知的財産サービスを提供すべく積極的に活動を行っています。
今回は7名もの優秀な人材が弊所を訪問くださりましたが、どなたも学習意欲と向上心が高いという印象を受けました。今後天皓集団との交流が深まり互いに学び会える関係を築くことができればと願っております。
8月30日、31日に北京で開催されたCPAC（China Patent Annual Conference）に我々、梶・須原特許事務所の中国事業部も出展してまいりました。
弊所ではCPACの前身であるPIAC（Patent Information Annual Conference）に、2012年初めて視察を兼ねて参加して以来、1年おきに出展をしています。今回は3回目の出展で、前回は2016年です。
～第３回：２０１７年出願人別ランキング～
中国企業による日本特許庁（ＪＰＯ）への出願状況を弊所において独自調査致しましたので、その結果を数回に分けてレポートします。第３回は、中国から日本への特許出願の公開件数及び登録件数、並びに、実用新案登録件数の出願人別ランキングです。なお、この調査は弊所が商用データベースを用いて独自に行ったものでＪＰＯにより発表されたものではなく、若干の誤差が含まれている可能性があることにご留意下さい。
１ 特許公開件数のランキング
中国企業（台湾除く）による２０１７年１月１日から２０１７年１２月３１日までの特許出願公開（ＰＣＴ国内移行の日本語翻訳文のＪＰＯによる公表を含む）件数は、４０７７件でした。そのうち、公開件数が最も多いのはHuawei (華為)で８５８件、続いて小米(シャオミ)で４０７件です。３位のＺＴＥを含めて上位三社が通信機器会社という興味深いものとなっています。公開件数が多い上位１０社を表１に示します。
＜表１＞
表１を全公開数に対する出願人別の比率として表したグラフが図１です。図１から、上位１０社で公開件数のほぼ半分を占めていること、Huawei (華為)の公開件数が他を大きく引き離していることが分かります。
＜図１＞
２ 特許登録件数のランキング
中国企業（台湾除く）による２０１７年１月１日から２０１７年１２月３１日までの特許登録件数は、２４０９件でした。そのうち、登録件数が最も多いのは、Huawei (華為)の４５１件、続いて小米(シャオミ)の１９７件です。特許登録件数が多い上位１０社を表２に示します。
＜表２＞
表２を全登録数に対する出願人別の比率として表したグラフが図２です。公開件数の上位１０社に入っていない清華大学（公開件数では１３位）が９位に入っているのが目立つほかは、図１とさほど大きな違いはありません。
＜図２＞
３ 実用新案登録件数のランキング
中国企業（台湾除く）による２０１７年１月１日から２０１７年１２月３１日までの実用新案登録件数は、３２８件でした。実用新案登録件数が多い上位９社を表３に示します。表２と表３を比べると、実用新案の上位出願人が特許の上位出願人とは全く異なることが分かります。また、特許の場合は上位１０社で件数のほぼ半分を占めていますが、実用新案の場合は、全体の中で上位１０社の占める割合は２０％程度に過ぎません。
＜表３＞
～第２回：中国の特色（６カ国の比較から）～
中国企業による日本特許庁（ＪＰＯ）への出願状況を弊所において独自調査致しましたので、その結果を数回に分けてレポートします。第２回は、中国から日本への特許出願の特徴を、日本への特許出願が比較的多い他の５カ国（ＫＲ，ＵＳ，ＤＥ，ＧＢ，ＦＲ）との比較に基づいて考察します。なお、この調査は弊所が商用データベースを用いて独自に行ったものでＪＰＯにより発表されたものではなく、若干の誤差が含まれている可能性があることにご留意下さい。
１ 直接出願とＰＣＴ国内移行の比率
本レポート第１回に記載したように、中国企業（出願人住所が中国国内となっている企業。台湾除く）による２０１７年の出願公開（ＰＣＴ国内移行の日本語翻訳文のＪＰＯによる公表を含む）件数４０７７件のうち、直接出願が７４３件で、ＰＣＴ国内移行が３３３４件でした。すなわち、２０１７年の出願公開件数のうちＰＣＴ国内移行が８２％を占めています。
ＫＲ，ＵＳ，ＤＥ，ＧＢ，ＦＲの５カ国についても、同じく、２０１７年の出願公開のうちＰＣＴ国内移行が占める割合（ＰＣＴ国内移行件数／（直接出願件数＋ＰＣＴ国内移行件数））を調べました。その結果を図１に示します。
＜図１＞
図１から分かるように、比較した主要６カ国の中で、ＰＣＴ国内移行比率が最も高かったのが中国でした。その理由としては、中国から日本に特許出願する案件はＵＳなどの他の数カ国にも特許出願する場合が多いためＰＣＴ利用の利便性が高いこと、中国で特許制度が始まったときに既にＰＣＴがあったために因習へのこだわりが少ないことが考えられます。
２ 実用新案の比率
本レポート第１回に記載したように、中国企業による２０１７年の特許登録件数は２４０９件で、実用新案登録件数が３２８件でした。すなわち、２０１７年の実用新案比率（実用新案登録件数／（特許登録件数＋実用新案登録件数））は１２％でした。
ＫＲ，ＵＳ，ＤＥ，ＧＢ，ＦＲの５カ国についても、同じく、２０１７年の実用新案比率を調べました。その結果を図２に示します。
＜図２＞
図２から分かるように、比較した主要６カ国の中で、中国は実用新案比率が際だって高いということが分かりました。実用新案制度があるＫＲでも実用新案比率は１．５％しかなく、ＤＥは０．３％に過ぎません。これはＳＩＰＯへの実用新案出願数が特許出願数よりも多いという状況を反映しているものと思われます（２０１７年のデータでは特許出願１３８万件に対して実用新案出願数が１６９万件）。
３ 登録案件の公開年別分布
本レポート第１回に記載したように、中国企業による２０１７年の特許登録件数２４０９件のうち、２０１６年公開の出願が１２１３件で最も多く、次に２０１５年公開の５０８件となりました。詳細は内訳は第１回レポートの表２に示したとおりです。
ＫＲ，ＵＳ，ＤＥ，ＧＢ，ＦＲの５カ国についても、同じく、２０１７年の特許登録案件の公開年別の分布状況を調べました。その結果を図３に示します。
＜図３＞
図３から、中国から日本への特許出願は、他の主要５カ国からの特許出願に比べて、早期に権利化されていることが分かります。ＤＥ，ＵＳ，ＧＢ，ＦＲの４カ国はピークが２０１５年であり、ピークが２０１６年であるＣＮ，ＫＲから１年シフトしています。また、ＫＲとＣＮを比べると、２０１６年のピークがＣＮの方が高く、２０１３年、２０１４年の割合がＫＲの方が多いことが分かります。また、ＣＮは、２０１７年の割合が他の５カ国の２倍程度あります。
上記のような傾向が現れている理由としては、中国企業が比較的早期に審査請求を行っていることがあるように思われます。
～第１回：２０１７年までの１５年間の推移～
中国企業による日本特許庁（ＪＰＯ）への出願状況を弊所において独自調査致しましたので、その結果を数回に分けてレポートします。第１回は、２００３年から２０１７年までの１５年間の公開件数、特許登録件数、実用新案登録件数の推移です。なお、この調査は弊所が商用データベースを用いて独自に行ったものでＪＰＯにより発表されたものではなく、若干の誤差が含まれている可能性があることにご留意下さい。
１ アウトライン
中国企業（出願人住所が中国国内となっている企業。台湾除く）による２００３年から２０１７年までの出願公開（ＰＣＴ国内移行の日本語翻訳文のＪＰＯによる公表を含む）件数、特許登録件数、実用新案登録件数を１年ごとに調べました。その結果を表１に示します。
＜表１＞
このように中国企業の日本への公開件数及び特許登録件数はこの１５年間で大幅に伸びたと言えます。また、特に昨年は公開件数が１０００件以上増加しています。中国企業の技術力の向上に伴い、今後も公開件数及び特許登録件数は引き続いて増加していくことが見込まれます。
おおざっぱに特許公開数に対する特許登録数の比率を見てみると、２００３年には特許が登録されるのが１０件に１件程度だったのが徐々に比率が増加し、２０１０年には４件に１件程度、２０１３年には２件に１件程度、２０１７年には２件に１件を超える割合で特許になっていることが分かります。
２ 公開件数の推移
表１に示した公開件数をグラフにしたのが下記の図１です。２００３年頃は直接出願とＰＣＴ国内移行で件数に大きな差はありませんでしたが、近年直接出願に比べてＰＣＴ国内移行の件数が大きく伸びていることが分かります。
＜図１＞
３ 登録件数の推移
表１に示した特許及び実用新案の登録件数をグラフとしたものが下記の図２です。実用新案に比べて特許の伸びが大きいことが分かります。
＜図２＞
２０１７年に登録された２４０９件の公開年別の件数を示したのが、下記の表２です。２０１６年公開の件数が１２１３件で最も多く、次に２０１５年公開の５０８件となりました。また、公開が２０１７年又はそれ以降となる件数も４６３件あり、非常に多くなっています。
＜表２＞
２０１７年登録案件の公開年別件数
北京から来た友人と二人で北海道の札幌市へ行ってきました。
大阪の関西国際空港から飛行機で2時間前後で北海道札幌市の千歳空港に到着。
そこから電車で札幌市内まで約40分。
秋とは言え大阪ではまだまだ蒸し暑い日もありますが、北海道は爽やかな秋晴れでした。白樺の木や、乾いた空気、平たく広大な大地に低い空、日本でありながら異国に来たかと錯覚してしまうほど大阪とは異なる雰囲気でした。
今回は、英文または英単語の記載で活用できる技です。
例えば、英文での以下のメール文を入力したとします。
“Please provide us with your instructions as soon as possible.”
上記文章の中で、“as soon as possible”を大文字にして強調したい場合、大文字で“AS SOON AS POSSIBLE”と打ち直すのも一つの方法ですが、“as soon as possible”を選択した状態で、Shift キーと、F3キーの二つのキーをこの順番で押下します。
すると、“as soon as possible”が、“As Soon As Possible”に変換されます。
同一のショートカットキーを押下すると、“As Soon As Possible”が、“AS SOON AS POSSIBLE”に変換されます。つまり、
の順番で大文字小文字の状態が切り替わります。
慣れてくると、全て小文字で、“cpu (central processing unit)”と入力した後、“cpu”を全て大文字に変換し、“central processing unit”の全単語の先頭のみ大文字に変換して、“CPU (Central Processing Unit)”と修正することも簡単にできます。いちいち、Shiftキーを押したり、押さなかったりと切り替える必要はなく後から編集できます。
範囲を選択してShift+ F3の二つのキーを押すのみなので、非常に手軽で便利です。
尚、段落の頭からピリオドまで、またはピリオドの直後から次のピリオドまでを選択して同様のキー操作を行うと、上記2の代わりに、先頭の１文字のみ大文字（つまり文章の先頭のみ大文字）という状態に変換されます。
前回から引き続きパソコンでの作業がほんの少しだけ楽になる技についてお話します。まずは非常に初歩的な技です。
前回の記事では、コピー＆ペーストのショートカット（Ctrl + c ⇒コピー、Ctrl + v ⇒貼り付け）について、言及しましたが、これ以外にも頻繁に使うショートカットキーがあります。今回は、更にその中でも文字書式を変更するショートカットキーを幾つか紹介します。
今回は、普段下図赤枠部分をクリックして行う文字書式の編集をキーボードのみで行う方法について説明します。
左から順に、選択した文字をボールド体、イタリック体、下線つき文字、下付き文字、上付き文字にするボタンです。これをクリックしてもいいのですが、キーボードから手を離さずに同じことができたら楽ですよね。
選択した文字をボールド体にしたい場合、文字を選択した状態でキーボードショートカットの、Ctrl + b を押下します。
↓↓↓↓Ctrl + b ↓↓↓↓
なお、もう一度同じショートカットキーを押すとボールド体の書式を解除できます。
選択した文字をイタリック体にしたい場合、文字を選択した状態でキーボードショートカットの、Ctrl + i を押下します。
↓↓↓↓Ctrl + i ↓↓↓↓
なお、もう一度同じショートカットキーを押すとイタリック体の書式を解除できます。
同様に、選択した文字を下線付き文字にしたい場合、文字を選択した状態でキーボードショートカットの、Ctrl + u を押下します。
↓↓↓↓Ctrl + u ↓↓↓↓
なお、もう一度同じショートカットキーを押すと下線無しにできます。
選択した文字を上付き文字にしたい場合、文字を選択した状態でキーボードショートカットの、Shift + Ctrl を押下し、続けて”+（プラス記号）“を入力します。
↓↓↓↓Shift + Ctrl + “+“ ↓↓↓
なお、もう一度同じショートカットキーを押すと上付き文字を解除できます。
同様に、選択した文字を下付き文字にしたい場合、文字を選択した状態でキーボードショートカットの、Shift + Ctrl を押下し、続けて”-（ハイフン、マイナス記号）“を入力します。
↓↓↓↓Shift + Ctrl + “–“ ↓↓↓
なお、もう一度同じショートカットキーを押すと下付き文字を解除できます。
| ショートカットキー | 説明 |
| Ctrl + b | 選択された範囲の文字をボールド体にする。 再度同じ操作でボールド体を解除する。 |
| Ctrl + i | 選択された範囲の文字をイタリック体にする。 再度同じ操作でイタリック体を解除する。 |
| Ctrl + u | 選択された範囲の文字を下線付き文字にする。 再度同じ操作で下線無しにする。 |
| Shift + Ctrl + + (プラス記号) | 選択された範囲の文字を上付き文字にする。 再度同じ操作で上付き文字の書式を解除する。 |
| Shift + Ctrl + – (ハイフン、or マイナス記号) | 選択された範囲の文字を下付き文字にする。 再度同じ操作で下付き文字の書式を解除する。 |
